500W直流溅射电源DC-500-LD主要适用于我公司制造的VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪和VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪，主要为溅射仪提供直流电源，配合磁控溅射头达到溅射靶材的目的。工作过程中输出功率可达到500W，输出电压可达DC600V，电压和电流的分辨都极高，可以满足对绝大多数导电材料的溅射的目的。500W直流溅射电源DC-500-LD配用本司的磁控溅射头，再搭配循环水冷机及高
500W直流溅射电源DC-500-LD主要适用于我公司制造的VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪和VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪，主要为溅射仪提供直流电源，配合磁控溅射头达到溅射靶材的目的。工作过程中输出功率可达到500W，输出电压可达DC600V，电压和电流的分辨都极高，可以满足对绝大多数导电材料的溅射的目的。500W直流溅射电源DC-500-LD配用本司的磁控溅射头，再搭配循环水冷机及高真空系统自行搭建磁控溅射镀膜仪对样品进行镀膜操作。500W直流溅射电源DC-500-LD是磁控溅射仪中不可缺少的组成部分。
| 产品型号 | 500W直流溅射电源DC-500-LD |
| 技术参数 | 1、输入电压：AC 220V 2、ZD输出功率：500W 3、ZD输出电压：DC 600V 4、电压分辨率：DC 1.0V 5、ZD输出电流：DC 0.8A 6、电流分辨率：1mA 7、控制精度：±1% |
| 产品规格 | 尺寸：440mm×160mm×440mm |
| 可选配件 | 1、2"高真空磁控溅射头，可自行搭建RF或DC溅射镀膜仪。 2、同时购买300W射频发射器和2"磁控溅射头时，本司赠送1个高真空快速接头。接头内径为0.75"，可将溅射 头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1"，真空腔体的壁厚不得大于1"。 3、循环水冷机，流量为16L/min，水箱容积为6L。 |
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