VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、二段程序控制速度。2、真空吸附方式固定样件，操作简便。3、真空度*大可以达到-0.08MPa。4、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。5、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。6、电机启动快速稳定，可以保证涂层厚度的一致性和
VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
主要特点
1、二段程序控制速度。
2、真空吸附方式固定样件，操作简便。
3、真空度*大可以达到-0.08MPa。
4、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。
5、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。
6、电机启动快速稳定，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。
7、本机可置于手套箱内使用，但控制部分与真空泵需置于箱外。
技术参数
1、功率：350W
2、转速：500-6000rpm
3、时间：1-60s
产品规格
尺寸：Φ250mm×290mm
重量：25kg
标准配件
1、真空吸盘
2、O型胶圈
3、滴液器
4、滴液器支架
5、无油真空泵
可选配件
过滤器（真空泵用）
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